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紅外光學溫度計是一種測量光并通過校準以指示溫度的設備。紅外光學溫度計檢測來自熱物體的輻射通量，并利用普朗克黑體輻射方程算法來計算物體的表面溫度。所用的算法是基于普朗克黑體輻射方程。
紅外光學溫度計通過測量物體輻射的紅外能量來計算物體的表面溫度。半導體行業的紅外溫度計主要應用于晶體生長階段，分為Si探測器、銦鎵砷探測器以及熱電堆探測器三種。從測溫原理上分為比色和單色，從光通形式分為透鏡型及光導型。
和其光電HQ-RTS系列紅外溫度計可應用于MOCVD、氧化擴散爐、PVD、CVD、ALD等半導體設備，具有高精準度、高重復性、高可靠性、可定制、技術支持快速響應等諸多優勢。

HQ-RTS-P 系列高精度紅外測溫儀具有很高的信噪比。能夠以及高精度測量較低的溫度來控制工藝過程。
HQ-RTS-P系列采用藍寶石光棒（即“光管”）作為鏡頭收集來自目標的紅外輻射，光管鏡頭的優點是可提供較低的溫度測量值，并易于集成到通常用于高級材料沉積（生長）和刻蝕（去除）工藝的真空反應設備。